- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/20
Brevets de cette classe: 21121
Historique des publications depuis 10 ans
1544
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1684
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1811
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1995
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2157
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1995
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1672
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1752
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1512
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302
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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ASML Netherlands B.V. | 6816 |
3948 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
1729 |
Nikon Corporation | 7162 |
1265 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
1089 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
971 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
464 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
389 |
Canon Inc. | 36841 |
385 |
ASML Holding N.V. | 542 |
358 |
KLA-Tencor Corporation | 2574 |
353 |
Gigaphoton Inc. | 1120 |
332 |
JSR Corporation | 2476 |
330 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
319 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
299 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
286 |
Carl Zeiss SMT AG | 287 |
248 |
KLA Corporation | 1223 |
198 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
157 |
Nissan Chemical Corporation | 1725 |
142 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
131 |
Autres propriétaires | 7728 |